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第二届全国半导体缺陷研讨会在虞举行

转载 高琴2024/04/15 12:55:06 发布 IP属地:未知 来源:上虞日报 作者: 66 阅读 0 评论 0 点赞

  本报讯 (记者 叶圣一) 4月13日上午,第二届全国半导体缺陷研讨会在我区举行。来自全国各地的200余位行业专家、精英学者、企业家齐聚上虞,探讨半导体缺陷控制前沿技术,共话行业未来发展。浙江大学硅及先进半导体材料全国重点实验室主任、中国科学院院士杨德仁教授,南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心主任、中国科学院院士江风益教授等出席,副市长、区委书记鲁霞光致辞,副区长阮程华参加。

  鲁霞光指出,半导体产业是战略性、基础性、先导性产业,是“新质生产力”的典型代表。半导体缺陷是半导体技术发展中的核心主题之一,在大国科技竞争的背景下开展缺陷研讨,对于践行科技自立自强、推进产学研深度融合、助力产业结构向高攀升具有重大意义。全国半导体缺陷研讨会作为目前国内唯一聚焦半导体缺陷控制的专业学术会议,不仅填补了我国半导体缺陷专题研讨领域的空白,还为高端半导体材料制备和产业化提供了坚实的理论计算、生长调控、测试分析,为半导体产业可持续发展提供了坚强支撑。

  鲁霞光说,当前,绍兴已成为环杭州湾地区集成电路产业高地,正积极申报国家现代产业集群,有很好的产业基础和完整的产业链,更有优厚开明的人才政策和科技创新政策;上虞也正依托国内顶尖高校资源和龙头企业,积极培育发展半导体产业。此次研讨会在我区召开,必将为绍兴和上虞发展壮大半导体产业、重构以新质生产力为核心的现代化产业体系提供强劲动力。衷心希望来自全国各地、高校的院士教授、专家学者、企业家们,为上虞半导体产业发展建言献策,把更多优质资源、优质项目、优质人才引入上虞,同“芯”合作、共赢发展。区委区政府将秉持“无事不扰、有事必应”理念,为所有来虞在虞的企业、项目、人才提供最优营商环境。

  开幕式后,有关专家作了专题报告。


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